レジーナ・ヘア＆メイクアップ フォト･コンペティションは今年で20回目を迎える、モデルウィッグを使ったフォトコンペティションでは最大級になります。

今回の募集テーマは「CHANGE」。選択授業で作品制作に挑戦したトップスタイリスト科と美容科のオオムラ生7名が優秀賞、準入選、また敢闘賞4名が選出されました。

🌟優秀賞
美容科2年生 阿部 こはるさん（宮崎県出身 ヒューマンキャンパス出身）

🌟準入選
美容科2年生 小田 晃瑛さん（福岡県 九州産業大学付属九州出身）

🌟準入選
美容科2年生　酒井 絢萌さん（福岡県 自由が丘出身）

🌟準入選
トップスタイリスト科１年生　南郷 凪砂さん（福岡県 筑陽学園出身）

🌟準入選
トップスタイリスト科１年生　吉開 千尋さん（山口県 ザビエル出身）

🌟準入選
美容科2年生　井村 祐珠さん（山口県 下関商業出身）

🌟準入選
美容科2年生　岩本 いろは さん（佐賀県 有田工業出身）

大村美容ファッション専門学校
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